MCS300P Multi Componenten Proces Analyse Systeem

MCS300P Multi Componenten Proces Analyse Systeem

MCS300P Continu Proces Monitoring Systeem voor Procesanalyse

Een analysesysteem wat alle taken uitvoert ten behoeve van Proces monitoring: meer dan 6 componenten worden simultaan gemeten. Geschikt voor gassen en vloeistoffen.

De MCS300P, fabrikaat Sick en geleverd door Multi Instruments Analytical B.V., is een extractieve procesfotometer voor metingen in gassen en vloeistoffen. De MCS300P kan zowel voor het IR als ook voor het VIS spectrum (IR/NIR/VIS) worden ingezet. Voor metingen in het ppm bereik tot metingen in vol%.

Voor de bewaking van toxische- of brandbare gassen is er een speciale processcuvette ontwikkeld die o.a. is voorzien van dubbele afdichtingen en spoelvoorzieningen. Daarnaast is deze cuvette verwarmbaar en geconstrueerd uit corrosiebestendige materialen.

De MCS300P is zeer geschikt voor onder meer:

  • Procesbewaking in chemische processen. O.a. Vinylchloride, Acrylzuur, Isocyanaat, Polycarbonaat, Acrylzuur.
  • Procesmeting bij huisvuilovens of energie bedrijven.
  • Bewaking van processen in een rookgasreinigingsinstallatie

Als optie kan de MCS300P worden uitgerust met een automatische justage mogelijkheid.

Zoals alle producten van Sick heeft de MCS300P een van de modernste software en beschikt hij over een ethernet aansluiting. Ook beschikbaar zijn: modbus, profibus en opc.

 

Specificaties

Meetbereik
Keuze uit meer dan 60 verschillende meetcomponenten (afhankelijk van concentratie en samenstelling meetgas)
Meetprincipe
Fotometer, Interferentiefiltercorrelatie, Gasfiltercorrelatie, Zirkoniumdioxidesensor
Omgevingstemperatuur
+5 °C ... +35 °C
Temperatuurverschil maximaal ± 10 °C/u
Met koelapparaat: +5 °C ... +45 °C
Mogelijke interfaces
Ethernet
Bus protocol
Modbus TCP / OPC / SOPAS ET (niet in de Ex-uitvoering)
IP klasse
IP43
ATEX klasse
II 2G Ex px IIC T4 Gb / II 2G Ex px IIC T3 Gb / II 3G Ex pz IIC T4 Gc / Process cuvette: II 2G Ex e IIC Gb / II 3G Ex pz IIC T3 Gc
Voeding
115 V / 230 V - 50 ... 60 Hz
Analoge uitgangen
2x 0/4 ... 22mA, max. belasting 500Ω
Galvanisch gescheiden, andere outputs bij inzet van I/O-modulen (optioneel)
Analoge ingangen
2x 0/4 ... 22mA, max. belasting 100Ω
Galvanisch gescheiden, andere inputs bij inzet van I/O-modulen (optioneel)
Digitale uitgangen
5 uitgangen:
3 potentiaalvrije contacten: Andere outputs bij inzet van I/O-modulen (optioneel)
2 Powerrelais: Galvanisch gescheiden, andere outputs bij inzet van I/O-modulen (optioneel)
Digitale ingangen
2 potentiaalvrije contacten:
Andere inputs bij inzet van I/O-modulen
Detectielimiet
≤ 2 % van het meetwaardebereik
Responsetijd
≤ 150 s Afhankelijk van type en lengte meetgasleiding
Rookgastemperatuur
≤ +220 °C
Afmetingen (H x B x D)
2100 x 800 x 600mm
Display
LC-display
Status-LED's: *Power*, *Maintenance* and *Failure*
Gewicht
≤ 300 kg
Elektrische veiligheid
CE

Kenmerken:

  • Gelijktijdige meting van max. 6 componenten plus O2
  • Controle meetgasstroom en registratie meetgasdruk
  • Temperatuur systeemcomponenten tot 220 °C
  • Automatische omschakeling voor max. 8 meetplaatsen (optioneel)
  • Automatische aanpassing nul- en referentiepunt
  • Geïntegreerde afsteleenheid zonder testgas (optioneel)
  • Geavanceerde bediening via PC en SOPAS ET software
  • Flexibel I/O-modulesysteem

Voordelen:

  • Kostenbesparende, automatische aanpassing zonder testgas
  • Eenvoudige controle en onderhoud op afstand dankzij integratie in de beschikbare netwerken
  • Automatische besturing van het complete meet- en bemonsteringssysteem
  • Onderhoudsarm en betrouwbaar door meting bij hoge temperaturen
  • In combinatie met de bemonsteringssonde SCP3000 ook inzetbaar voor metingen onder hoge stofbelasting en bij hoge temperaturen
  • Korte responstijd door hoge meetgasdoorstroming

Applicaties:

  • Procesbewaking bij de productie van vinylchloride en isocyanaat
  • Procesaansturing in de chemische industrie
  • Procesbewaking bij de productie van kunststoffen
  • Controle van zuiveringsinstallaties voor de verbranding van afval of slib
  • Controle van het water in zuiveringsinstallaties m.b.t. de regeling van de dosering
  • Meting direct aan de inlaat van de draaiovens in de cementindustrie